第515章 稀土需求的第一次暴增 (第1/2页)
国内的基建速度每每能让人震动。
哪怕他这个磁悬浮列车的方案提出者，对于磁悬浮列车示范区的建设速度也极为震惊。
铁道部从去年起就憋着口气，如今的建设速度极为夸张。
尤其是年初奉天市第一机床厂终于完成了五轴五联动的数控机床，整个磁悬浮列车施工蜿蜒段的技术要求便彻底达标。
这条二十公里的磁悬浮建设段，大有下半年就要完工启动测试的迹象。
沈永健这边对于磁悬浮所需的电力系统，也担心电力供应问题，进行了特高压输电线的研制。
不过研制工作才进行到一半，随着微电子厂如今L-3芯片出口产量的进一步扩大。
包括卓邵文处L-5芯片最终研制生产对工艺的更高要求。
沈永健还是暂时将特高压输电线放放，先把精力投入在光刻机上。
距离上一次光刻机改进，已是四年前。
步进式光刻机，在目前已经是极为先进的产品。
米方当下新一代的光刻机是投影光刻机，和国内的步进式光刻机算是同一代设备。
不过总的而言，还是国内步进式光刻机更为成熟，也是未来演进的方向。
沈永健翻看着微电子厂送来的使用反馈。
有一线光刻机操作员的反馈，也有技术维修相关工程师的反馈，同时还有份是自己学生薛福根的意见。
意见总共有几条，首先便是视野有限。
目前的光刻机对于L-3与L-4的几个延伸型号芯片，尤其是设计面积大的“大芯片”容易照不全。
需要将这块“大芯片”拆分成好几块拼接曝光。
而且工艺上曝光的边缘容易糊，不均匀。
多层套刻时，精度比较差，这也是目前新一代L-4芯片良品率上不去的主要原因。
沈永健眉头微蹙，从边上的档案袋内取出上一代的步进重复光刻机图纸。
脑中仔细回顾原先的设计思路，包括这些年对于光刻机的一些想法积累，很快便动笔规划起新图纸。
关于光刻机的几代演进方向，他心中一清二楚。
真要只是从设计考虑，他能发挥的空间很大，哪怕是后世接近现代化光刻机也并非不可能。
但考虑到现实的生产条件，最后还是摇了摇头，将步进重复光刻机先试着升级为步进扫描光刻机。
步进重复与步进扫描，其实都算是步进式光刻机，但两者性能差距不小。
传统的步进重复是“静止曝光”，而步进扫描则是“动态曝光”。
在曝光瞬间，掩模台和硅片台不再保持静止，而是按照精确的缩小比例进行同步反向移动。
照明光线只通过一个狭长的“狭缝”对硅片进行扫描式曝光。
一边设计，沈永健一边在纸张上推导着各类公式，对设计本身进行着验证。
步进扫描的镜头视野覆盖面积会更大。
扫描过程中，光源波动的曝光不均匀局部缺陷，也会尽可能的被“平均”掉。
一连几天，沈永健都将心思花在了新一代光刻机改进上。
别看都是步进式光刻机，但实际的改进难度极大，所有的一整套设备都需要进行更高标准的更新。
“沈委员，按照您的描述，投影物镜这块应该没问题。”
“只是您说的激光传感器…暂时还需要时间，我们所里对激光这个方向还未有过研究…”
话筒里说话的是北春所的申所长。
对于投影物镜这一块的新标准，北春所这些年一直在投入精力研究，也有信心在短时间内满足沈永健的需求
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